电子光学超纯水处理及成套解决方案

电子光学元器件制造概述

　　随着信息时代的到来，作为电子工业大规模集成电路的市场需求。在集成电路生产的多道道工序中，其80%以上需高纯水清洗。水中的各种超微量杂质都会对产品产生重要影响。电子工业中其他部门对纯水和超纯水均有着广泛的需求，如彩色显像管的生产等等。

　　超纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一。半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路需用高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备，这是一种制取超纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力大的超纯水制备工艺。

电子工业用超纯水的应用领域

　　1)半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

　　2)超纯材料和超纯化学试剂。

　　3)实验室和中试车间。

　　4)汽车、家电表面抛光处理。

　　5)光电产品。

制备电子工业用超纯水的工艺流程

　　电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种：

　　方案一：

　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15 MΩ•cm)

　　方案二：

　　预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-二级反渗透-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17 MΩ•cm)

　　方案三：

　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18 MΩ•cm)

　　在电子光学超纯水设备，通常采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+混床除盐水处理工艺;或者是全膜法处理工艺：UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ•cm以上。

　　电子光学行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2MΩ•cm)的超纯水，在普通EDI超纯水设备后，通常还装设抛光混床进行精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物，由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离，不能用酸碱将它们分别再生，所以这种抛光树脂失效后，弃之不用。抛光混床又称一次性混床，一般情况用在工艺末端，用来更进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。一般出水水质都能达到18兆欧以上，以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。

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