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电子光学超纯水处理及成套解决方案

发表时间:2017-04-05 15:14

电子光学元器件制造概述


  随着信息时代的到来,作为电子工业大规模集成电路的市场需求。在集成电路生产的多道道工序中,其80%以上需高纯水清洗。水中的各种超微量杂质都会对产品产生重要影响。电子工业中其他部门对纯水和超纯水均有着广泛的需求,如彩色显像管的生产等等。

  超纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一。半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路需用高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备,这是一种制取超纯水的工艺,也是一种环保,经济,发展潜力大的超纯水制备工艺。


电子工业用超纯水的应用领域

  1)半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

  2)超纯材料和超纯化学试剂。

  3)实验室和中试车间。

  4)汽车、家电表面抛光处理。

  5)光电产品。

制备电子工业用超纯水的工艺流程

  电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种:

  方案一:

  预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15 MΩ•cm)

  方案二:

  预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-二级反渗透-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17 MΩ•cm)

  方案三:

  预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18 MΩ•cm)

  在电子光学超纯水设备,通常采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+混床除盐水处理工艺;或者是全膜法处理工艺:UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ•cm以上。

  电子光学行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2MΩ•cm)的超纯水,在普通EDI超纯水设备后,通常还装设抛光混床进行精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物,由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离,不能用酸碱将它们分别再生,所以这种抛光树脂失效后,弃之不用。抛光混床又称一次性混床,一般情况用在工艺末端,用来更进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。

温馨提示:我公司可根据客户水源水质、水温、产水量及用途不同,为客户定制合适的水处理设备详情请拨打免费咨询电话:400-995-3698-2



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